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SOLUCIONES DE TRATAMIENTO DE AGUAS RESIDUALES PARA LA INDUSTRIA MICROELECTRÓNICA Y DE SEMICONDUCTORES

IDE proporciona soluciones rentables y de alto rendimiento para el ciclo del agua en una instalación de fabricación, como aguas residuales, tratamiento de purga de agua de refrigeración, reciclaje y reutilización

 

Las fábricas de semiconductores se enfrentan a retos únicos en lo que respecta a la gestión y el tratamiento del agua. El proceso de producción exige agua ultrapura para evitar defectos y mantener una funcionalidad óptima del chip y del procesador.  El cumplimiento de las estrictas normas y reglamentos de calidad del agua es esencial y, además, el acceso a los recursos hídricos externos está disminuyendo, lo que conlleva un aumento de los gastos de agua.

Las soluciones avanzadas de tratamiento de aguas de IDE permiten a las fábricas:

  • Producir agua limpia y eliminar impurezas.
  • Tratar y reutilizar eficazmente sus aguas residuales.
  • Garantizar el cumplimiento de las normas reglamentarias.
  • Minimizar el impacto medioambiental y cumplir los objetivos de sostenibilidad.


IDE permite a las fábricas maximizar el potencial de sus aguas residuales y minimizar los costes de vertido mediante dos tecnologías complementarias:

  • Desalador MAX H2O –  una tecnología de ósmosis inversa de última generación que utiliza un ciclo integrado de precipitación salina para aplicaciones de alta recuperación.
  • Tecnología RO de flujo de impulsos (PFRO)   – revoluciona el proceso convencional de desalación por ósmosis inversa al pasar de un flujo continuo a un flujo por impulsos. 

Estas tecnologías disruptivas consiguen altas tasas de recuperación de agua a pH neutro al tiempo que minimizan la complejidad y el uso de productos químicos en comparación con los métodos tradicionales de tratamiento del agua como el proceso HERO (ósmosis inversa de alta eficacia). 

Conozca cómo la solución PFRO de IDE para la minimización de salmueras aumentó la recuperación global de esta fábrica de semiconductores hasta el 88%.

Alimentación eficaz de la ZLD con el desalador MAX H2O

Muchos fabricantes de semiconductores están pasando a la descarga cero de líquidos (ZLD) y a la desalación térmica para obtener mayores tasas de recuperación de agua y no verter líquidos. El proceso de desalación, con su capacidad de eliminación de sílice, aborda un reto común en el tratamiento del agua de los semiconductores. Al eliminar la sílice durante el tratamiento, se reducen los riesgos de incrustación en el cristalizador, ofreciendo una mayor eficacia y rendimiento.

Obtenga más información sobre las ventajas de la tecnología disruptiva de IDE en este blog

Nuestras soluciones de eliminación de PFAS

La EPA ha confirmado recientemente una nueva hoja de ruta para los PFAS que establece niveles máximos de contaminantes legalmente vinculantes para proteger contra estas sustancias químicas perennes y persistentes en el agua potable. Actualmente, la normativa solo se aplica a los municipios, pero las industrias que dependen de los compuestos PFAS pueden enfrentarse a un mayor escrutinio y a presiones normativas en un futuro próximo.  En IDE ofrecemos una gama completa de soluciones de eliminación de PFAS para el tratamiento de las aguas residuales municipales e industriales antes de su vertido. 

Obtenga más información sobre los retos que implica la eliminación de PFAS en este blog

Las soluciones de tratamiento de aguas de IDE logran ayudar a su fábrica a afrontar sus retos hídricos con eficacia para reducir costes, minimizar el impacto medioambiental y reducir los riesgos normativos.

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